石墨加工服務(wù)與創(chuàng)新中心 (GMSI) 為半導(dǎo)體和 LED 行業(yè)提供產(chǎn)品和技術(shù)支持。盡管 GMSI 的 Peter Guercio 和他的同事不是顯微鏡專家，但他們每天都使用 Phenom ProX 臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)對(duì)先進(jìn)材料進(jìn)行研發(fā)。

配備有能譜功能（EDS）的 Phenom ProX 臺(tái)式電鏡，可用于工藝控制和產(chǎn)品的質(zhì)量檢測(cè)。 實(shí)時(shí)圖像獲取與元素分析功能相結(jié)合，比以前快 8 倍的速度獲取數(shù)據(jù)，對(duì)產(chǎn)品改進(jìn)至關(guān)重要。

從外包測(cè)試到內(nèi)部分析 ✦

幾年前, GMSI 還是外包所有的掃描電鏡（SEM）測(cè)試。因?yàn)闃悠繁仨毸偷酵饷鏈y(cè)試，不僅耽誤時(shí)間還耗費(fèi)資源。4 年前, GMSI 的實(shí)驗(yàn)室購(gòu)買了飛納 Phenom 臺(tái)式掃描電鏡。因此，研發(fā)進(jìn)度大大提升，不用再浪費(fèi)時(shí)間等待數(shù)據(jù)了。

在半導(dǎo)體和 LED 行業(yè)中，GMSI 使用化學(xué)氣相沉積工藝在石墨上生產(chǎn) SiC 薄膜。他們每天使用 Phenom SEM 進(jìn)行研發(fā)，以及工藝控制和產(chǎn)品質(zhì)量檢測(cè)。

使用飛納臺(tái)式掃描電鏡的優(yōu)勢(shì) ✦

在實(shí)驗(yàn)室中擁有一臺(tái)飛納電鏡可以節(jié)約大量時(shí)間。Phenom 用于測(cè)量加工工藝的相關(guān)參數(shù)，例如薄膜厚度和表面形態(tài)。

飛納電鏡可以立即反饋獲得 SiC 擴(kuò)散到石墨的厚度和表面晶體結(jié)構(gòu)關(guān)鍵數(shù)據(jù)。對(duì) GMSI 來(lái)說(shuō), 集成導(dǎo)航相機(jī)的快速顯微檢查是 Phenom 臺(tái)式 電鏡的另一個(gè)重要優(yōu)勢(shì)。光學(xué)導(dǎo)航與電子顯微鏡圖像同步，以顯示缺陷所在的位置，從而可以快速尋找特定的感興趣區(qū)域。

以舊換新加速研發(fā)進(jìn)度 ✦

GMSI 將他們之前的飛納電鏡更換成配備 EDS 功能的 Phenom ProX 掃描電鏡能譜一體機(jī)。EDS 元素分析用于顯示薄膜的元素組成，使 GMSI 可以通過(guò)調(diào)節(jié)沉積參數(shù)以獲得最佳化學(xué)配比。

最近，得益于 Phenom ProX 的實(shí)時(shí)圖像獲取和能譜分析功能，使得 GMSI 新產(chǎn)品投入市場(chǎng)的速度提高了八倍。

Peter 解釋到, “如果沒(méi)有 Phenom ProX 臺(tái)式掃描電鏡，我們不可能開(kāi)發(fā)出最新的工藝。沒(méi)有其他設(shè)備可以替代飛納臺(tái)式掃描電鏡的重要作用！”

540 倍下，石墨上 SiC 薄膜（白色層）的 SEM 圖像

石墨上 SiC 膜的掃描電鏡圖片。背散射探頭圖像可以顯示原子襯度，圖片上可以看出 SiC 滲入石墨基材中，從而可以有效防止 SiC 脫落。

Phenom 臺(tái)式掃描電鏡可以快速觀察晶體結(jié)構(gòu)。SEM 圖片 1000 倍（左）和 3900 倍（右），在缺陷位置仍然存在膜層覆蓋。

石墨加工服務(wù)與創(chuàng)新中心有限責(zé)任公司（GSMI），是石墨和碳制品的加工和制造行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者。 雖然他們的專長(zhǎng)是加工石墨，但他們還為客戶提供其他的制造服務(wù)，例如加工塑料、復(fù)合材料、金屬和各種特殊材料。