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復納科技邀您共赴2025年安徽省電子顯微學學術交流會

瀏覽次數:338 發(fā)布日期:2025-3-26  來源:本站 本站原創(chuàng),轉載請注明出處

2025 年 3 月 27 日 - 30 日,2025 年安徽省電子顯微學學術交流會將在黃山市拉開帷幕!這是一次匯聚行業(yè)精英、共探前沿技術的絕佳契機,復納科技也將攜前沿技術與產品參與其中,與大家攜手推動電子顯微學的發(fā)展。

會議時間:2025年3月27日-30日

會議地點:安徽農業(yè)大學皖南綜合試驗站

復納科學儀器(上海)有限公司(簡稱“復納科技”)深耕儀器行業(yè) 15 年,致力于引進世界先進的分析測試科學儀器裝備,為客戶提供優(yōu)質的產品、服務和核心技術解決方案,賦能科研創(chuàng)新、工業(yè)升級。目前主要提供六大產品:飛納臺式掃描電鏡、Technoorg Linda 制樣設備離子研磨儀、DENSsolutions 原位透射樣品桿、NEOSCAN 高分辨臺式顯微 CT、Forge Nano 粉末原子層沉積系統和 VSParticle 納米氣溶膠沉積系統以及相關產品的付費測試服務。

Part.1 飛納臺式掃描電鏡

荷蘭飛納作為全球領先的桌面掃描電子顯微鏡,操作簡單,成像速度快且質量高,其優(yōu)異的低真空模式可以直接觀察不導電樣品,收到了眾多研究者的青睞。

Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機能夠提供多種測量模式,包括機械性能、相關性分析、磁性能、電機械性能和電性能等,覆蓋了從亞納米級地形測量到局部彈性、硬度、磁疇成像、壓電疇成像、導電性映射、局部表面電勢映射以及局部電性能等多個領域。

原子力掃描電鏡一體機

Pharos STEM 作為全球唯一臺式場發(fā)射 SEM-STEM 電子顯微鏡,為材料領域的研究提供了高效、全面的表征方式。

Phenom SEM 型號推薦

原子力掃描電鏡一體機
Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機

場發(fā)射掃描電鏡
Phenom Pharos 臺式場發(fā)射掃描電鏡

臺式掃描電子顯微鏡大倉室版
Phenom XL 大樣品式卓越版

掃描電鏡能譜一體機
Phenom ProX 電鏡能譜一體機

全自動鋰電清潔度掃描電鏡
ParticleX Battery 全自動鋰電清潔系統


Part.2 SEM/TEM 制樣設備
復納科技還擁有Technorg Linda 系列離子研磨儀,采用離子束技術,可對樣品進行快速研磨及表面精細加工和最終拋光。是SEM/TEM 樣品表面處理的有力工具。

離子研磨儀
臺式離子研磨儀 SMART

離子精修儀
臺式離子精修儀 Gentle Mill

離子減薄儀
臺式離子減薄儀 Unimill

Part.3 DENSsolutions 原位樣品桿
DENS 產品可以為原位 TEM 樣品施加外界刺激,捕捉 TEM 樣品在真實環(huán)境下的動態(tài)現象。目前提供的五種原位實驗方案:Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Climate Infinity TEM 原位氣相加熱加電方案、Stream Infinity TEM 原位液相加熱加電方案和 Arctic TEM 原位冷凍熱電方案,為各學科領域在相關條件下研究各種材料和工藝開辟了前所未有的可能性。

原位加熱桿
Wildfire 原位加熱樣品桿

原位熱電樣品桿
Lightning 原位熱電方案

原位氣相加熱加電樣品桿
Climate Infinity 原位氣相加熱加電方樣品桿

原位液相加熱加電樣品桿
Stream Infinity 原位液相加熱加電樣品桿

原位冷凍熱電樣品桿
Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿


Part.4 NEOSCAN 臺式顯微 CT
NEOSCAN 臺式顯微 CT 掃描系統對場地要求少、免維護、具備高空間分辨率。能夠真實再現材料內部結構,在材料研究、失效分析、工藝優(yōu)化中已經成為不可替代的測試手段。
 

顯微ct


Part.5 Forge Nano 原子層沉積
ALD 技術可實現高精度及均勻包覆,能夠有效提升材料性能與使用壽命。Forge Nano 針對粉末類材料比表面積大的特點,采用流化床技術實現粉末材料的流化,從而保證前驅體與粉末實現充分的接觸,可實現kg級粉末批量包覆,是工業(yè)生產前最理想的研發(fā)工具。
 

流化床原子層沉積
PROMETHEUS 流化床原子層沉積系統

多功能原子層沉積系統
Pandora 多功能原子層沉積系統

Part.6 VSParticle 納米沉積系統
VSP-P1 納米印刷沉積系統能夠實現具有獨特性能的無機納米結構材料的打印直寫。印刷涂層的顆粒由 VSP-G1 納米粒子發(fā)生器產生,經火花燒蝕產生的氣溶膠顆粒其典型粒徑在 20nm 以下,且不含表面活性劑或任何其他有機添加物質。納米粒子生產和印刷沉積的整個過程是完全自動化的,不需要進行后續(xù)有機成分的熱處理去除。

納米顆粒印刷沉積設備
納米印刷沉積系統 VSP-P1
 


納米粒子發(fā)生器 VSP-G1

相關公司:復納科學儀器(上海)有限公司
聯系電話:400-857-8882
E-mail:cici.yang@phenom-china.com



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